龙港市启盛镭射材料有限公司
LONGGANG QISHENG LEISHE CAILIAO CO.,LTD

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产品详情
介质镭射膜
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真空蒸发镀膜(简称真空蒸发)是将蒸发材料加热使其蒸发,沉积在产品表面形成固体薄膜。真空蒸发利用各种形式的热能转换,将涂层材料蒸发或升华成具有一定能量的气态颗粒。介质镭射膜气态粒子通过基本上无碰撞的线性运动传输到衬底,并且粒子沉积在衬底的表面上并凝结成薄膜。介质镭射膜形成薄膜的原子重新排列或化学键的结合发生变化。

介质镭射膜的主要组成

真空镀铝工艺是在10-2-10-3Pa的真空条件下,将铝线加热到1400℃左右,然后附着在各种基膜上,形成真空镀铝薄膜,铝层厚度一般为35-55 nm。

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