真空蒸发镀膜(简称真空蒸发)是将蒸发材料加热使其蒸发，沉积在产品表面形成固体薄膜。真空蒸发利用各种形式的热能转换，将涂层材料蒸发或升华成具有一定能量的气态颗粒。介质镭射膜气态粒子通过基本上无碰撞的线性运动传输到衬底，并且粒子沉积在衬底的表面上并凝结成薄膜。介质镭射膜形成薄膜的原子重新排列或化学键的结合发生变化。

介质镭射膜的主要组成

真空镀铝工艺是在10-2-10-3Pa的真空条件下，将铝线加热到1400℃左右，然后附着在各种基膜上，形成真空镀铝薄膜，铝层厚度一般为35-55 nm。